Experimentelle Techniken und apparative Ausstattung
Beugung langsamer Elektronen (LEED)
- konventionelle 4-Gitter-LEED-Optik mit Shutter und AES-Elektronik (SPECS)
- MCP-LEED mit zwei Channelplates für hochempfindliche Oberflächen (Omicron)
- SPA-LEED für Reflex-Profilanalyse (LEYBOLD)
Fourier-Transform-Infrarotspektroskopie (FTIRS) in Transmission, Reflexion und diffuser Reflexion
- Interferometer BRUKER IFS 120 HR (Auflösung <0.01 cm-1)
- Interferometer BRUKER IFS 66 v mit Rapid Scan und Step Scan (Auflösung 0.1 cm-1)
- verschiedene Ultrahochvakuumpumpstände für FTIR-Untersuchungen
- DRIFTS-Messzelle für Untersuchungen im Druckbereich <1 bis >10 bar und Temperaturen <900°C
- Abbildung
Gaschromatograhie, gekoppelt mit Massenspektroskopie (GC-MS)
- GC-MS für Untersuchungen von Gasmischungen in katalysierten Reaktionen (AGILENT Technologies)
Helium-Atomstrahlstreuung (HAS)
- HAS-Apparatur HELIOS für elastische und inelastische Heliumstreuung (Leihgabe des MPI für Strömungsforschung, Göttingen)
- Abbildung
Röntgen- und Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie (XPS, UPS)
- Elektronen-Energieanalysator mit 9 Channeltrons in Mehrkammer-Ultrahochvakuumanlage (PHOIBOS 150, SPECS)
- Röntgenquelle mit Mg/Al-Doppelanode (XR 50, SPECS)
- monochromatische Röntgenquelle mit Al/Ag-Doppelanode (FOCUS 500, SPECS)
- UV-Quelle für He I- und He II-Strahlung (UVS 10/35, SPECS)
- Abbildung
Raster-Kraft- und Raster-Tunnel-Mikroskopie (AFM, STM)
- kombiniertes UHV-Raster-Kraft- und Raster-Tunnel-Mikroskop (VT-AFM 25 RH, Omicron)
- Temperaturbereich 25 - 750 K
- atomare Auflösung im AFM-Betrieb durch Beam Deflection-Technik
- Abbildung
Ultrahochvakuumtechnologie
- verschiedene Ultrahochvakuumanlagen für Untersuchungen von Isolatoren, Halbleitern und Metallen
- Kryostaten für Probentemperaturen bis herunter zu 4 K
- Spaltvorrichtungen für in situ-Präparation von Isolatoreinkristallen
- verschiedene experimentelle Techniken (s.o.)